O progresso da ci ncia dos materiais tem promovido o r pido desenvolvimento da economia global, quer se trate de materiais polim ricos inteligentes com sistemas de dete o, quer de materiais fotorresistentes que promovem o desenvolvimento de circuitos integrados de semicondutores desde o n vel micron at ao n vel nano, s o a dire o de desenvolvimento mais promissora neste dom nio. As mol culas fotocr micas s o introduzidas na rede polim rica para preparar elast meros polim ricos inteligentes com fun o de deforma o fotocontrolada ou materiais fotorresistentes com desempenho de despolimeriza o fotocontrolada, o que abre uma nova dire o para a prepara o de materiais funcionais. No entanto, como melhorar a fotossensibilidade deste tipo de material, acelerar a sua velocidade de resposta luz e ter um excelente desempenho f sico-qu mico, para que possa ser aplicado na vida quotidiana humana, esta s rie de problemas ainda precisa de ser resolvida. O hexarildiimidazol (HABI), como interrutor molecular fotocr mico com uma resposta fotoqu mica r pida, pode ser integrado em pol meros e utilizado para fabricar materiais polim ricos funcionais e materiais fotorresistentes DUV, proporcionando uma ideia-chave para resolver problemas cient ficos importantes neste dom nio.
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